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現在的超純水生產工藝大多采用反滲透設備+EDI+拋光混床，無需再生藥劑，有效降低了運行成本。汽車芯片用超純水設備生產的水質電阻率可以達到18MΩ·CM，滿足汽車芯片用水的需求。...

經過多年實踐，萊特萊德結合采用反滲透、EDI裝置結合拋光混床的模塊化設計工藝制備超純水，其水電阻率高達18MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優點...

鋰電池超純水設備采用預處理、反滲透技術、超凈化處理和后處理方法，幾乎完全去除水中的導電介質，并將水中的非游離膠體物質、氣體和有機物去除到很低的程度。...

半導體行業在生產的時候需要大量的清洗水，隨著半導體工業的不斷發展，對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴格。...

超純水設備作為芯片生產過程中的標準設備，通常采用反滲透水處理設備、電離子(EDI)設備和拋光混合床制造超純水，使其出水滿足芯片生產用水的需求，成為芯片產業復興的堅強后盾。...

萊特萊德單晶硅超純水設備采用RO反滲透+EDI或混床拋光技術，根據不同用戶的需求，定制設計不同水質要求和不同水流量要求的超純水設備，具有水質穩定、操作簡便、運行成本低、綠色環保、易于維護等優點...